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Nanofabrication and characterization of MoS2-based field effect transistors
2018/2019 RICCI, SAVERIO
Nanostrutturazioni di leghe SiGe per deformazioni controllate di film sospesi di Ge
2014/2015 BORRIELLO, MAURO
Novel semiconductor photon sources for quantum and nonlinear applications
2022/2023 Tavani, Giulio
Plasmonics and strain-engineering in ge-based devices for NIR photodetection
LODARI, MARIO
Single bismuth atom transistor for solid state atomic clock applications
2018/2019 FAGIANI, LUCA
Strain engineering in Si, Ge and SiGe alloys
MONDIALI, VALERIA
Studio e caratterizzazione di maschere attraverso la litografia elettronica per il controllo di dislocazioni in leghe metastabili a base di SiGe
2013/2014 RUBERT, RICCARDO
| Fulltext | Data | Tipo | Titolo | Autore (i) |
|---|---|---|---|---|
| 2019-10-03 | Tesi di laurea Magistrale | Nanofabrication and characterization of MoS2-based field effect transistors | RICCI, SAVERIO | |
| 2015-07-28 | Tesi di laurea Magistrale | Nanostrutturazioni di leghe SiGe per deformazioni controllate di film sospesi di Ge | BORRIELLO, MAURO | |
| 2023-06-29 | Tesi di Dottorato | Novel semiconductor photon sources for quantum and nonlinear applications | Tavani, Giulio | |
| 2018-02-21 | Tesi di Dottorato | Plasmonics and strain-engineering in ge-based devices for NIR photodetection | LODARI, MARIO | |
| 2019-12-18 | Tesi di laurea Magistrale | Single bismuth atom transistor for solid state atomic clock applications | FAGIANI, LUCA | |
| 2015-02-23 | Tesi di Dottorato | Strain engineering in Si, Ge and SiGe alloys | MONDIALI, VALERIA | |
| 2014-04-29 | Tesi di laurea Magistrale | Studio e caratterizzazione di maschere attraverso la litografia elettronica per il controllo di dislocazioni in leghe metastabili a base di SiGe | RUBERT, RICCARDO |
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