Confronto impianto a vapore di flash con binario di bottoming e impianto binario ad alta entalpia

ALTERI, PIERPAOLO
2015/2016

RUOTOLO, DAVIDE
ING - Scuola di Ingegneria Industriale e dell'Informazione
27-apr-2016
2015/2016
Tesi di laurea Magistrale
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Descrizione: Tesi - laurea specialistica
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/10589/121486