chemical vapour deposition has been use to deposit FLG on electroformed, freestanding, metal substrates and on metal layers plated by galvanic displacement onto silicon, with the aim of producing a coating which displays the novel properties of graphene
La deposizione da vapori chimici è stata impiegata come metodo per deporre multipli strati grafenici al di sopra di metalli elettroformati e deposti per spostamento galvanico su silico, con lo scopo di fornire una finitura superficiale che goda delle proprietà del graphene stesso
Graphene deposition for MEMS technology
PEDRAZZETTI, LORENZO
2014/2015
Abstract
chemical vapour deposition has been use to deposit FLG on electroformed, freestanding, metal substrates and on metal layers plated by galvanic displacement onto silicon, with the aim of producing a coating which displays the novel properties of grapheneFile allegati
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https://hdl.handle.net/10589/108895